Atualmente estrutura de revestimento mais comum na carboneto de tungsténio laminas processo CVD é: nitreto de titanio - alumina - nitrogênio carboneto de titanio - substrato. Revestimento de carboneto de titanio tem alta dureza e resistência ao desgaste, resistência à oxida??o, ou, quando a lamina de corte de carboneto podem produzir película de óxido de titanio, a redu??o do coeficiente de atrito e reduzir o desgaste da ferramenta. Geral velocidade de corte lamina de metal duro pode ser aumentada em 40%, de carboneto de titanio e temperatura elevada aderência, gr?o superfície é fina, lamina de metal duro para cortar a?o raramente BUE, adequado para carros finos. Desvantagem é que um revestimento de carboneto de titanio e a diferen?a do coeficiente de expans?o linear entre o substrato maior camada descarbonetada, frágil formada entre o substrato e reduzir a resistência à flex?o da ferramenta. Portanto, quando o corte pesado ou produ??o de uma pe?a com um disco inclus?es de revestimento de material facilmente quebrar.

Revestimento de nitreto de titanio é capaz de ser formada película de óxido, a uma temperatura elevada, boas propriedades de anti-bloqueio pode ser, efectivamente, reduzir a temperatura de corte. Nitreto de titanio revestido de lamina cratera e capacidade de desgaste de flanco é mais forte do que o carboneto de titanio revestido inser??es. Os materiais adequados para o corte de a?o e carboneto de lamina de faca vara, rugosidade superficial menor maior vida de ferramentas de corte de metal duro, de servi?o. Além ao choque térmico do revestimento de nitreto de titanio também é boa, a desvantagem n?o é t?o bom como com a resistência de liga??o do substrato de revestimento de carboneto de titanio e fácil de soltar quando o revestimento é espessa.

Carboneto cementado revestido é o método mais vulgarmente usado para o método de deposi??o química de vapor de alta temperatura (método HTCVD abreviado), na press?o atmosférica ou sistema de deposi??o de press?o negativa, o H2 puro, CH4, N2, TiCl4, AICI3, de CO2 e de outros gases, ou vapores, de acordo com a composi??o do sedimento, que irá estar relacionada com o gás, de acordo com uma certa propor??o uniformemente misturado, vire aplicado a uma determinada temperatura (geralmente 1000 ~ 1050 ℃ ℃) da superfície da lamina de metal duro, isto é, a superfície da lamina de deposi??o TiC , TiN, Ti (C, N) ou Al2O3, ou um revestimento composto. Usando PCVD (deposi??o de vapor químico de plasma) método para revestir a superfície das pastilhas de metal duro, também tem sido aplicada, o processo de revestimento, devido à temperatura mais baixa (700 ° a 800 °), de modo que a resistência à flex?o da lamina baixada para uma menor medida, para a moagem inserir mais apropriado.

Antes do revestimento, a superfície das laminas deve ser de purifica??o, o corte de partes de bordo deve ser passivado. Após o revestimento, devido à presen?a de materiais de revestimento diferen?as entre os coeficientes de expans?o linear baseado fora do material, que é a superfície da lamina revestida de trac??o residual estresse inevitavelmente deixando a lamina para reduzir a resistência à flex?o. Geralmente usar uma fina camada de TiC revestido em superfície do substrato, uma vez que o coeficiente de dilata??o linear de TiC está próximo ao substrato; aplicar uma fora de TiN, Al2O3 e outros semelhantes. No passado, os materiais de revestimento único usar TiC, os materiais de revestimento duplo usar TiC / TiN, TiC / Al2O3, etc, materiais de revestimento de três usar TiC / Ti (C, N) / TiN, Tic / Al2O3 / TiN e assim por diante. Nos últimos anos, com a melhoria do material de matriz, o material de revestimento também usar estanho como inferior, ou seja, TiN / TiC / TiN e outros materiais de revestimento, bem como HFN, MoS2 e semelhantes.